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| 內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備將全額退還增值稅 |
| 發(fā)布時間：2011/11/22 來源： 閱讀次數(shù)：684 |
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| 為了鼓勵科學研究和技術(shù)開發(fā)，促進科技進步，經(jīng)國務院批準，財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局發(fā)布《關(guān)于研發(fā)機構(gòu)采購設(shè)備稅收政策的通知》（財稅[2009]115號），決定對外資研發(fā)中心進口科技開發(fā)用品免征進口稅收，對內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。 通知中要求，外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》（財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局令第44號）免征進口稅收，根據(jù)其設(shè)立時間，應分別滿足下列條件： ?。ㄒ唬?009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應同時滿足下列條件： 1.研發(fā)費用標準：（1）對新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；（2）對設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心，企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于l000萬元?！ ?.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人?！ ?.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元?！ 。ǘ?009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應同時滿足下列條件： 1.研發(fā)費用標準：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。 2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人?！ ?.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元?！ 【唧w審核辦法由商務部會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局另行制定?！ ⊥ㄖ兄赋觯m用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)包括： ?。ㄒ唬犊萍奸_發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》（財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局令第44號）規(guī)定的科學研究、技術(shù)開發(fā)機構(gòu)?！ 。ǘ犊茖W研究和教學用品免征進口稅收規(guī)定》（財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局令第45號）規(guī)定的科學研究機構(gòu)和學校。 ?。ㄈ┓媳就ㄖ谝粭l規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。 具體退稅管理辦法由國家稅務總局會同財政部另行制定?！ ⊥ㄖ兴龅脑O(shè)備，是指本通知附件所列的為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設(shè)備、裝置和器械。該通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日?！ 「郊嚎萍奸_發(fā)、科學研究和教學設(shè)備清單 為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設(shè)備、裝置和器械（不包括中試設(shè)備），具體包括以下三類： 一、實驗環(huán)境方面 ?。ㄒ唬┙虒W實驗儀器及裝置； ?。ǘ┙虒W示教、演示儀器及裝置； ?。ㄈ┏瑑粼O(shè)備（如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等）； ?。ㄋ模┨厥鈱嶒灜h(huán)境設(shè)備（如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設(shè)備等）； ?。ㄎ澹┨厥怆娫?、光源（如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等）； ?。┣逑囱h(huán)設(shè)備； （七）恒溫設(shè)備（如水浴、恒溫箱、滅菌儀等）； ?。ò耍┬⌒头鬯椤⒀心ブ苽湓O(shè)備?！ 《悠分苽湓O(shè)備和裝置 ?。ㄒ唬┨胤N泵類（如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等）； ?。ǘ┡囵B(yǎng)設(shè)備（如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等）； ?。ㄈ┪⒘咳釉O(shè)備（如移液管、取樣器、精密天平等）； ?。ㄋ模┓蛛x、純化、濃縮設(shè)備（如離心機、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等）； ?。ㄎ澹怏w、液體、固體混合設(shè)備（如旋渦混合器等）： ?。┲茪庠O(shè)備、氣體壓縮設(shè)備： ?。ㄆ撸Ｓ弥茦釉O(shè)備（如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等），實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備：實驗室樣品前處理設(shè)備； ?。ò耍嶒炇覍Ｓ眯∑骶撸ㄈ绶峙淦?、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等）?！ ∪?、實驗室專用設(shè)備 ?。ㄒ唬┨厥庹障嗪蛿z影設(shè)備（如水下、高空、高溫、低溫等）； ?。ǘ┛蒲酗w機、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件： ?。ㄈ┨胤N數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料（如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等）： ?。ㄋ模┨厥怆娮硬考ㄈ珉娐钒?、特種晶體管、專用集成電路等）： ?。ㄎ澹┎牧峡茖W專用設(shè)備（如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用于板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實驗機等），可靠性試驗設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗設(shè)備； ?。┬⌒腿蹮捲O(shè)備（如真空、粉末、電渣等），特殊焊接設(shè)備； ?。ㄆ撸┬⌒腿菊?、紡絲試驗專用設(shè)備； ?。ò耍╇娚碓O(shè)備。 |
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